用于等离子体工艺的系统

摘要

本发明公开了一种用于等离子体工艺的系统，该系统包括大气传送腔、真空传送腔和等离子体反应腔，该真空传送腔连接在该等离子体反应腔和该大气传送腔之间，该系统还包括至少一个抽气装置，该抽气装置的一端连接在该大气传送腔上，该抽气装置用于从大气传送腔向系统的外部进行抽气。本发明能够改善等离子体工艺中的颗粒状况，提高良品率。

主权项

一种用于等离子体工艺的系统，所述系统包括大气传送腔、真空传送腔和等离子体反应腔，所述真空传送腔连接在所述等离子体反应腔和所述大气传送腔之间，其特征在于，所述系统还包括至少一个抽气装置，所述抽气装置的一端连接在所述大气传送腔上，所述抽气装置用于从所述大气传送腔向所述系统的外部进行抽气，所述抽气装置不仅能减少产生自所述等离子体反应腔的颗粒的污染，而且也能改善来自所述等离子体反应腔之外的颗粒的污染。