发明名称 |
用于投影体监测的方法和装置 |
摘要 |
根据本文提供的教导的一个方案,机器视觉系统包括一个或多个传感器单元,每个传感器单元有利地配置为使用一组间隔开的图像传感器中的不同配对,以便为主监测带提供冗余的物体检测,而同时为可能遮蔽主监测带的物体提供检测。另外,多种“缓解”和提高措施提供了安全性设计和稳定的操作。这样的缓解和提高措施例如包括:不良像素检测和映射、用于改进的物体检测的基于聚类的像素处理、用于故障检测的测试图像注入、双重通道、用于高安全性物体检测的冗余处理、时域滤波以减少错误检测、以及使用高动态范围(HDR)图像,用于改善各种环境照明条件下的操作。 |
申请公布号 |
CN103649994A |
申请公布日期 |
2014.03.19 |
申请号 |
CN201280033381.2 |
申请日期 |
2012.07.03 |
申请人 |
欧姆龙株式会社 |
发明人 |
约翰·德林卡尔德;阿姆布里什·特亚吉;谷喜东;木下航一 |
分类号 |
G06T7/00(2006.01)I;H04N7/18(2006.01)I |
主分类号 |
G06T7/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
金鹏;陈昌柏 |
主权项 |
一种投影体监测装置,包括传感器单元,所述传感器单元包括:四个图像传感器,具有全部交叠主监测带的相应的传感器视场,并且所述四个图像传感器布置为使得第一图像传感器和第二图像传感器形成第一主基线对,所述第一主基线对的间隔限定第一主基线,第三图像传感器和第四图像传感器形成第二主基线对,所述第二主基线对的间隔限定第二主基线,所述四个图像传感器还布置为使得第一图像传感器和第三图像传感器形成第一次基线对,所述第一次基线对的间隔限定第一次基线,第二图像传感器和第四图像传感器形成第二次基线对,所述第二次基线对的间隔限定第二次基线,其中所述主基线比所述次基线长;以及多个图像处理电路,配置为使用从所述主基线对获取的图像数据来冗余地检测所述主监测带内的物体,并且还配置为使用从所述次基线对获取的图像数据来检测遮蔽物体,其中遮蔽物体相对于所述主监测带阻挡一个或多个所述传感器视场。 |
地址 |
日本京都府京都市 |