发明名称 直接接触型隔膜阀及具有该隔膜阀的高压气体填充容器
摘要 本发明提供一种卤素气体或卤素化合物气体的填充容器用阀。根据本发明,直接接触型隔膜阀包括:阀主体,其设有入口通路和出口通路;阀室,其用于与阀主体的入口通路和出口通路相连通;阀座部,其设于入口通路的内端开口部;膜片,其设于阀座部的上方,用于保持阀室内的气密状态,并且用于开闭入口通路及出口通路;阀杆,其用于使膜片的部向下方下降;驱动部,其用于使阀杆沿上下方向移动,该直接接触型隔膜阀的特征在于,在阀座部与膜片相接触的接触面中,阀座部的接触面的表面粗糙度Ra的值为0.1μm~10.0μm,阀座部的接触面的曲率半径R为100mm~1000mm,膜片与阀座部相接触的接触面积Sb同膜片的气体接触部表面积Sa的面积比率Sb/Sa为0.2%~10%。本发明的阀具有充分的气密性,可以较佳地用作卤素气体或卤素化合物气体用的填充容器用阀。
申请公布号 CN102884348B 申请公布日期 2014.03.19
申请号 CN201180021294.0 申请日期 2011.03.08
申请人 中央硝子株式会社;练木股份有限公司 发明人 梅崎智典;田仲健二;八尾章史;宫崎达夫;毛利勇;川岛忠幸;竹田胜;宫崎功司;上长康一;佐治公一
分类号 F16K7/12(2006.01)I;F16J3/02(2006.01)I;F16K1/30(2006.01)I;F16K27/00(2006.01)I 主分类号 F16K7/12(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种直接接触型隔膜阀,该直接接触型隔膜阀包括:阀主体,其设有入口通路和出口通路,卤素气体或卤素化合物气体在该阀主体内部流通;阀室,其用于与阀主体的入口通路和出口通路相连通;阀座部,其设于入口通路的内端开口部;膜片,其设于阀座部的上方,用于保持阀室内的气密状态,并且用于开闭入口通路及出口通路;阀杆,其用于使膜片的中央部向下方下降;驱动部,其用于使阀杆沿上下方向移动,该直接接触型隔膜阀的特征在于,在阀座部与膜片相接触的接触面中,阀座部的接触面的表面粗糙度Ra的值为0.1μm~10.0μm,阀座部的接触面的曲率半径R为100mm~1000mm,膜片与阀座部相接触的接触面积Sb同膜片的气体接触部表面积Sa的面积比率Sb/Sa为0.2%~10%。
地址 日本山口县