发明名称 |
Procedimiento para el tratamiento de material de silicio |
摘要 |
Procedimiento para el tratamiento de material de silicio contaminado en superficie presente en una mezcla demateriales tal como piezas de silicio, granulado de silicio inclusive fracciones de plaquitas y/o granulado esféricos,en particular material de silicio con una contaminación superficial de 1 ppb - 1000 ppm, en particular 10 ppm - 1000ppm, con respecto al peso de silicio, que comprende las etapas de procedimiento, en cualquier orden a) retirar material que se adhiere a la superficie del material de silicio mediante tamizado de la mezcla demateriales por medio de una tela de tamiz, b) separar partículas gruesas eléctricamente conductoras de la mezcla de materiales y c) retirar material extraño visualmente perceptible y material de silicio fuertemente oxidado de la mezcla demateriales. |
申请公布号 |
ES2448540(T3) |
申请公布日期 |
2014.03.14 |
申请号 |
ES20080773802T |
申请日期 |
2008.07.02 |
申请人 |
SCHOTT SOLAR AG;FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. |
发明人 |
VON CAMPE, HILMAR;REIME, SASCHA;BUSS, WERNER;SCHWIRTLICH, INGO |
分类号 |
C01B33/037 |
主分类号 |
C01B33/037 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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