发明名称 Procedimiento para el tratamiento de material de silicio
摘要 Procedimiento para el tratamiento de material de silicio contaminado en superficie presente en una mezcla demateriales tal como piezas de silicio, granulado de silicio inclusive fracciones de plaquitas y/o granulado esféricos,en particular material de silicio con una contaminación superficial de 1 ppb - 1000 ppm, en particular 10 ppm - 1000ppm, con respecto al peso de silicio, que comprende las etapas de procedimiento, en cualquier orden a) retirar material que se adhiere a la superficie del material de silicio mediante tamizado de la mezcla demateriales por medio de una tela de tamiz, b) separar partículas gruesas eléctricamente conductoras de la mezcla de materiales y c) retirar material extraño visualmente perceptible y material de silicio fuertemente oxidado de la mezcla demateriales.
申请公布号 ES2448540(T3) 申请公布日期 2014.03.14
申请号 ES20080773802T 申请日期 2008.07.02
申请人 SCHOTT SOLAR AG;FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. 发明人 VON CAMPE, HILMAR;REIME, SASCHA;BUSS, WERNER;SCHWIRTLICH, INGO
分类号 C01B33/037 主分类号 C01B33/037
代理机构 代理人
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