发明名称 |
一种叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构 |
摘要 |
发明涉及一种叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构,包括第一硅承载层和第二硅承载层组成的叠层芯片,第二硅承载层铺设在第一硅承载层的底部形成凸起区域;第一硅承载层的底部和凸起区域上均生长有电性隔绝层,并留有第一开口和第二开口;第一开口中设有第一电性连接点;第二开口中设有第二电性连接点;电性隔绝层上生长有光阻层;光阻层上生长有金属层;金属层覆盖第一电性连接点和第二电性连接点;第一电性连接点上通过多次电镀形成第一铜凸块;第二电性连接点上通过多次电镀形成第二铜凸块;第一铜凸块和第二铜凸块顶部处于同一水平面;第一铜凸块和第二铜凸块的顶部生长有等高度的金属球。本发明能够保证在倒装焊的过程中更好地连接。 |
申请公布号 |
CN103633051A |
申请公布日期 |
2014.03.12 |
申请号 |
CN201310682395.3 |
申请日期 |
2013.12.12 |
申请人 |
宁波芯健半导体有限公司 |
发明人 |
俞国庆;邵长治;谢皆雷;廖周芳;吴超;罗立辉;吴伟峰 |
分类号 |
H01L23/488(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/488(2006.01)I |
代理机构 |
上海泰能知识产权代理事务所 31233 |
代理人 |
宋缨;孙健 |
主权项 |
一种叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构,包括叠层芯片,其特征在于,所述叠层芯片包括第一硅承载层和第二硅承载层,所述第二硅承载层铺设在所述第一硅承载层的底部形成凸起区域;所述第一硅承载层的底部和凸起区域上均生长有电性隔绝层,所述第一硅承载层的底部上的电性隔绝层上留有第一开口;所述第一开口中设有第一电性连接点;所述凸起区域上的电性隔绝层上留有第二开口;所述第二开口中设有第二电性连接点;所述电性隔绝层上生长有光阻层;所述光阻层上生长有金属层;所述金属层覆盖所述第一电性连接点和第二电性连接点;所述第一电性连接点上通过多次电镀形成第一铜凸块;所述第二电性连接点上通过多次电镀形成第二铜凸块;所述第一铜凸块和第二铜凸块顶部处于同一水平面;所述第一铜凸块和第二铜凸块的顶部生长有等高度的金属球。 |
地址 |
315336 浙江省宁波市杭州湾新区庵东工业园区华兴地块中横路18号 |