发明名称 一种叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构
摘要 发明涉及一种叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构,包括第一硅承载层和第二硅承载层组成的叠层芯片,第二硅承载层铺设在第一硅承载层的底部形成凸起区域;第一硅承载层的底部和凸起区域上均生长有电性隔绝层,并留有第一开口和第二开口;第一开口中设有第一电性连接点;第二开口中设有第二电性连接点;电性隔绝层上生长有光阻层;光阻层上生长有金属层;金属层覆盖第一电性连接点和第二电性连接点;第一电性连接点上通过多次电镀形成第一铜凸块;第二电性连接点上通过多次电镀形成第二铜凸块;第一铜凸块和第二铜凸块顶部处于同一水平面;第一铜凸块和第二铜凸块的顶部生长有等高度的金属球。本发明能够保证在倒装焊的过程中更好地连接。
申请公布号 CN103633051A 申请公布日期 2014.03.12
申请号 CN201310682395.3 申请日期 2013.12.12
申请人 宁波芯健半导体有限公司 发明人 俞国庆;邵长治;谢皆雷;廖周芳;吴超;罗立辉;吴伟峰
分类号 H01L23/488(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L23/488(2006.01)I
代理机构 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人 宋缨;孙健
主权项 一种叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构,包括叠层芯片,其特征在于,所述叠层芯片包括第一硅承载层和第二硅承载层,所述第二硅承载层铺设在所述第一硅承载层的底部形成凸起区域;所述第一硅承载层的底部和凸起区域上均生长有电性隔绝层,所述第一硅承载层的底部上的电性隔绝层上留有第一开口;所述第一开口中设有第一电性连接点;所述凸起区域上的电性隔绝层上留有第二开口;所述第二开口中设有第二电性连接点;所述电性隔绝层上生长有光阻层;所述光阻层上生长有金属层;所述金属层覆盖所述第一电性连接点和第二电性连接点;所述第一电性连接点上通过多次电镀形成第一铜凸块;所述第二电性连接点上通过多次电镀形成第二铜凸块;所述第一铜凸块和第二铜凸块顶部处于同一水平面;所述第一铜凸块和第二铜凸块的顶部生长有等高度的金属球。
地址 315336 浙江省宁波市杭州湾新区庵东工业园区华兴地块中横路18号