发明名称 一种含杂质高温气体的处理设备
摘要 实用新型公开一种含杂质高温气体的处理设备,包括设备壳体、导管和下降管,高温气体入口设置在设备壳体的顶部,气体出口设置在设备壳体的侧壁上,杂质出口设置在设备壳体的底部,设备壳体内的下部空间充有冷却介质,设备壳体内的上部空间为环隙空间;导管的上端与高温气体入口相连接,导管的下端与下降管的上端相连接,下降管的下端伸入设备壳体内下部空间的冷却介质中,导管和下降管上均设置有激冷环,通过激冷环分别向导管和下降管内喷淋冷却介质,对含杂质高温气体进行冷却。
申请公布号 CN203474741U 申请公布日期 2014.03.12
申请号 CN201320198486.5 申请日期 2013.04.18
申请人 中国寰球工程公司 发明人 隋建伟;郭慧波;杨小艳;曹文;王琥;李锦辉;徐儒庸;李若男;王秋枫;张静怡
分类号 C10K1/06(2006.01)I;C10K1/10(2006.01)I;C01B3/50(2006.01)I;C01B3/52(2006.01)I 主分类号 C10K1/06(2006.01)I
代理机构 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人 孙皓晨
主权项 一种含杂质高温气体的处理设备,其特征在于,包括:设备壳体(2)、导管(7)和下降管(4),其中:设备壳体(2)上具有高温气体入口(10)、气体出口(12)和杂质出口(14),高温气体入口(10)设置在设备壳体(2)的顶部,气体出口(12)设置在设备壳体(2)的侧壁上,杂质出口(14)设置在设备壳体(2)的底部,设备壳体(2)内的下部空间充有用于对含杂质的高温气体进行分离、净化、降温和增湿的冷却介质,设备壳体(2)内的上部空间为环隙空间(3);导管(7)和下降管(4)设置在设备壳体(2)的内部,导管(7)的上端与高温气体入口(10)相连接,导管(7)的下端与下降管(4)的上端相连接,下降管(4)的下端伸入设备壳体(2)内下部空间的冷却介质中,导管(7)和下降管(4)上分别设置有激冷环(9)和激冷环(6),通过激冷环(9)和激冷环(6)分别向导管(7)和下降管(4)内喷淋冷却介质,对含杂质高温气体进行冷却。
地址 100012 北京市朝阳区来广营高科技产业园创达二路1号