发明名称 层叠型电子元器件的层叠方向判定方法、层叠型电子元器件的层叠方向判定装置、层叠型电子元器件带的制造方法、以及层叠型电子元器件带的制造装置
摘要 发明提供一种能正确地判定层叠型电子元器件的导体层的层叠方向的层叠型电子元器件的层叠方向判定方法、层叠方向判定装置、将层叠型电子元器件的导体层的层叠方向朝一定方向对齐的层叠型电子元器件带的制造方法、以及层叠型电子元器件连的制造装置。层叠型电子元器件的层叠方向判定装置(3)包括测定单元(11、12)和判定单元(13)。测定单元(11、12)获取与从用于对导体层和非导体层层叠而成的层叠型电子元器件(200)进行观察的观察面检测到的红外线能量相关的测定值。判定单元(13)设定对应于测定条件的阈值,将该阈值与测定值进行比较,并基于该比较结果来判定层叠型电子元器件(200)的导体层的层叠方向。
申请公布号 CN103636301A 申请公布日期 2014.03.12
申请号 CN201280032673.4 申请日期 2012.07.06
申请人 株式会社村田制作所 发明人 冈村幸辉
分类号 H05K13/08(2006.01)I;B65B15/04(2006.01)I;H05K13/02(2006.01)I 主分类号 H05K13/08(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 俞丹
主权项 一种层叠型电子元器件的层叠方向判定方法,其特征在于,包括:测定工序,在该测定工序中,在预先设定的测定条件下获取与从包含用于对导体层和非导体层层叠而成的层叠型电子元器件进行观察的观察面在内的区域检测到的红外线能量相关的测定值;以及判定工序,在该判定工序中,设定对应于所述测定条件的阈值,将该阈值与所述测定值进行比较,并基于该比较结果来判定所述层叠型电子元器件的导体层的层叠方向。
地址 日本京都府