一种测试光刻机遮光挡板的方法

摘要

发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种测试光刻机遮光挡板的方法。本发明一种测试光刻机遮光挡板的方法，在业界标准的掩模板遮光板测试的基础上，通过采用设置有测试图形线条和测试图形线条间隙的测试研磨板，由于其上设置的测试图形线条图形是高度重复图形，能够灵敏的反馈遮光板的制造缺陷或漏光问题，所以在硅片上曝光后，利用缺陷检测设备，能够全方位测试光刻机掩模板遮光挡板制造缺陷或漏光问题。

主权项

一种测试光刻机遮光挡板的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：完成标准的掩模板遮光板测试后，确认掩模板遮光板已达到基本精度要求；步骤S2：在一测试掩模板上至少设置一测试图像，该测试图像由测试图形线条和测试图形线条间隙间隔排列组成；步骤S3：采用步骤S2中设置有测试图像的测试掩模板进行曝光显影；步骤S4：利用缺陷检测设备测试遮光板是否存在问题；其中，所述测试掩模板上的测试图形线条图形是高度重复图形，能够灵敏的反馈遮光板的制造缺陷或漏光问题。