| 发明名称 |
PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING A BLACK MATRIX USING THE SAME |
| 摘要 |
A photoresist composition includes a binder resin combined with a black dye, a monomer, a photo-polymerization initiator and a remainder of a solvent. |
| 申请公布号 |
US2014065542(A1) |
申请公布日期 |
2014.03.06 |
| 申请号 |
US201313853395 |
申请日期 |
2013.03.29 |
| 申请人 |
SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. |
发明人 |
RYU SOO-HYE;SHIM YI-SEOP;JANG CHANG-SOON;HUH CHUL |
| 分类号 |
G03F7/20;G03C1/52 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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