一种用于光电成像器件光谱响应辐射损伤的测试方法

摘要

本发明涉及一种用于光电成像器件光谱响应辐射损伤的测试方法，该方法涉及装置是由卤素灯光源室、单色仪、投射镜头、矩形分划板、反射镜、平行光管、成像物镜、三维样品调整台和待测光电成像器件制成，本发明利用单色仪输出均匀的单色光，并经过投射物镜将放置在平行光管焦面位置的矩形分划板照亮，再经过反射镜改变光路方向后射入到平行光管，平行光管输出的准直单色光通过成像物镜将矩形分划板成像到光电成像器件的光敏面上，根据所采集的图像信息得出光电成像器件的光谱响应，再将光电成像器件受高能粒子辐照后，再进行测试一次，即可得到器件的光谱响应辐射损伤，本发明所述的方法结构紧凑，操作简单方便。

主权项

一种用于光电成像器件光谱响应辐射损伤的测试方法，其特征在于该方法中涉及装置是由卤素灯光源室（1）、单色仪（2）、投射镜头（3）、矩形分划板（4）、反射镜（5）、平行光管（6）、成像物镜（7）、三维样品调整台（8）和待测光电成像器件（9）制成，具体操作按下列步骤进行：a、卤素灯光源室（1）中卤钨灯光源发出的光照入单色仪（2）的入射狭缝，经过单色仪（2）的光栅分光后，由单色仪（2）的出射狭缝发出单色光；b、将步骤a得到的单色光投射到投射镜头（3），将单色仪（2）的狭缝像成像到矩形分划板（4）处；c、将步骤b得到的单色光照明矩形分划板（4），透过矩形分划板（4）后的光，经过反射镜（5）改变光路方向，输入到平行光管（6）实现准直单色光输出；d、将步骤c得到的准直单色光通过成像物镜（7）将矩形分划板（4）成像到待测光电成像器件（9）的光敏面上，通过调整三维样品调整台（8）使得待测光电成像器件（9）的光敏面位于成像物镜（7）的焦点位置；e、将待测光电成像器件（9）采集到的图像，利用常规的光电成像器件光谱响应公式，得到待测光电成像器件受高能粒子辐照前的光谱响应； f、将步骤e得到的光电成像器件受高能粒子辐照，按步骤d‑步骤e再进行测试一次光谱响应，再将两次测试结果进行比对，即可得到光电成像器件受辐照后光谱响应的辐射损伤。