| 发明名称 | 评估具有光学不均匀性的测定 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于评估利用样本的测定的方法和传感器设备（100）。在测定期间，在感测表面（112）处进行光学测量，并且生成所述感测表面（112）的至少一幅“均匀性图像”。从这幅图像，为至少一个感兴趣区域确定“均匀性指标”，之后根据所述指标评估所述光学测量。所述均匀性指标例如可以是二元值，其指示是否检测到不均匀性。如果检测到不均匀性，可以拒绝所有光学测量，可以仅拒绝针对所涉及的感兴趣区域的测量，或可以拒绝针对所涉及的感兴趣区域（ROI）的选定子区域的测量。 | ||
| 申请公布号 | CN103620392A | 申请公布日期 | 2014.03.05 |
| 申请号 | CN201280031638.0 | 申请日期 | 2012.04.23 |
| 申请人 | 皇家飞利浦有限公司 | 发明人 | T·H·埃弗斯;D·J·W·克隆德;J·H·尼乌文赫伊斯;J·B·A·D·范佐恩 |
| 分类号 | G01N21/94(2006.01)I;G01N21/55(2014.01)I;G01N21/88(2006.01)I;G06T7/00(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/94(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 刘瑜;王英 |
| 主权项 | 一种用于评估利用样本执行的测定的方法，所述方法包括如下步骤：a）在感测表面（112）处进行光学测量，这包括生成所述感测表面（112）的被称为“均匀性图像”的至少一幅图像；b）确定所述均匀性图像的至少一个感兴趣区域（ROI）之内的图像均匀性的指标；c）根据所述均匀性指标评估所述光学测量。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||