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发明名称
发光装置
摘要
本发明的目的在于提供一种防止在发光元件周边部预先被覆/埋入的透光性被覆材的垂下,由此在适当部位可靠地配置透光性被覆材,将品质偏差抑制在最小限,成品率佳的高品质发光装置。该发光装置具有第一金属构件、载置在该第一金属构件的一端上的发光元件、和至少被覆上述发光元件的透光性被覆材,在上述第一金属构件的表面具有确定上述透光性被覆材的形成区域的凹坑,上述凹坑的内壁连续。
申请公布号
TWI427833
申请公布日期
2014.02.21
申请号
TW096127222
申请日期
2007.07.26
申请人
日亚化学工业股份有限公司 日本
发明人
岸川大介;德田启佑;西内直纪
分类号
H01L33/48
主分类号
H01L33/48
代理机构
代理人
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项
地址
日本
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