发明名称 Elektrisch isolierende Beschichtung und Verfahren zum Bilden einer elektrisch isolierenden Beschichtung
摘要 <p>Elektrisch isolierende Beschichtung (10) zum Minimieren einer elektrischen Leitfähigkeit eines Metallsubstrats (14), wobei die elektrisch isolierende Beschichtung (10) umfasst: eine Polymerkomponente, die aus einem Monomervorläufer gebildet ist; und eine Pulverkomponente, die in der Polymerkomponente im Wesentlichen vollständig dispergiert ist; wobei die Pulverkomponente in der elektrisch isolierenden Beschichtung (10) in einer Menge von mindestens 5 Gewichtsanteilen bis höchstens 80 Gewichtsanteilen basierend auf 100 Gewichtsanteilen der elektrisch isolierenden Beschichtung (10) vorhanden ist; wobei die Pulverkomponente einen ersten Bestandteil mit einer mittleren Partikelgröße von 1 nm bis 100 nm und einen zweiten Bestandteil mit einer mittleren Partikelgröße von 0,1μm bis 50μm umfasst; wobei die elektrisch isolierende Beschichtung (10) im Wesentlichen nicht zerfällt, wenn sie 100 V bis 330 V bei einer Temperatur von–50°C bis 500°C ausgesetzt ist; wobei die elektrisch isolierende Beschichtung (10) eine dielektrische Festigkeit von zumindest 787.402 Volt Wechselstrom pro cm aufweist.</p>
申请公布号 DE102010054595(B4) 申请公布日期 2014.02.20
申请号 DE20101054595 申请日期 2010.12.15
申请人 GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC (N. D. GESETZEN DES STAATES DELAWARE) 发明人 WANG, YUCONG
分类号 B05D7/14 主分类号 B05D7/14
代理机构 代理人
主权项
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