发明名称 导电性材料的制造方法及制造装置
摘要 本发明将在透明支撑体(12)上具有含银盐的银盐乳剂层的感光薄膜进行曝光、显影,从而形成金属银部(16)。然后,以该金属银部(16)为阴极,将被镀材料(32)在实质上不含镀覆物质的电解液中进行通电。然后,对通电后的被镀材料(32)实施非电解镀覆处理,仅在金属银部(16)上形成第一镀覆层(20)。然后,进行电镀处理,在第一镀覆层(20)上形成第二镀覆层(22),再在该第二镀覆层(22)上形成第三镀覆层(23)。
申请公布号 CN101270493B 申请公布日期 2014.02.19
申请号 CN200810086243.6 申请日期 2008.03.24
申请人 富士胶片株式会社 发明人 冈崎贤太郎;山崎高康
分类号 C25D5/02(2006.01)I;C25D5/54(2006.01)I 主分类号 C25D5/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 陈建全
主权项 一种筛目型导电性材料的制造方法,其是对在绝缘性支撑体上具有筛目形状的导电性金属部(16)的被镀材料(32)实施镀覆处理来形成导电层,其特征在于,该方法由以下工序构成:制作具有所述导电性金属部的所述被镀材料的工序;通电工序,其在所述镀覆处理前,使表面电阻为10欧姆/sq~10000欧姆/sq的所述导电性金属部与氢过电压大于所述被镀材料的氢过电压的金属电极接触,从而以所述导电性金属部(16)作为阴极,将所述被镀材料(32)在实质上不含镀覆物质的电解液中进行通电;以及在通电处理结束后的所述导电性金属部上进行镀覆处理来形成所述导电层的工序;在所述通电工序中,通电时的电流为0.001A/dm2~10A/dm2。
地址 日本东京都