发明名称 一种温室无土栽培种植彩椒的方法
摘要 本发明涉及一种温室无土栽培种植彩椒的方法,具体包括栽培设施的安装:将预先购置的营养液桶埋于温室地面以下,安装供液泵,布置安装营养液供液主管;将栽培槽固定好,最底部一排栽培槽离地面35cm高,相邻两排栽培槽之间的中心距为60cm;安装收集灌溉渗出液的回液管路;向栽培槽中下部装10厘米的河沙,上部分装上栽培基质。本发明的种植方法生产的彩椒质量好,无污染,生产环境清洁卫生,病虫害相对较少,大大减少农药的使用,彩椒商品性好;免去了土壤耕作的繁重劳动,省时省力;不受地区、土壤等条件限制,提高了土地利用率。
申请公布号 CN103583336A 申请公布日期 2014.02.19
申请号 CN201310529927.X 申请日期 2013.11.01
申请人 孔艳娥 发明人 孔艳娥;张小磊;芦培胜;任元刚;李智勇
分类号 A01G31/00(2006.01)I 主分类号 A01G31/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种温室无土栽培种植彩椒的方法,其特征在于,包括(1)栽培设施的安装将预先购置的营养液桶埋于温室地面以下,安装供液泵,布置安装营养液供液主管;将栽培槽固定在温室中,最底部一排栽培槽离地面35cm高,相邻两排栽培槽之间的中心距为60cm;安装收集灌溉渗出液的回液管路;向栽培槽中下部装10厘米的河沙,上部分装上含有下列成分的栽培基质:珍珠岩8份、进行无氧发酵后的花生壳粉3份、进行无氧发酵后的油茶子壳2份、炉渣3份、蔗渣2份、椰渣2份、菇渣3份、鸡粪5份、磷酸二铵1份、粉碎后的苦楝4份、油菜枯饼7份、粉碎后的罂粟科植物5份、硅藻土4份,栽培基质填装至距离栽培槽顶部3~4cm高度处,在栽培槽中铺设滴灌带;(2)栽培与管理在营养液桶中配制营养液;将彩椒苗定植在栽培槽中;开启供液泵,使得营养液以滴灌方式对定植于栽培槽中的彩椒进行灌溉,采用间歇式灌溉方式,灌溉完毕后关闭供液泵停止供液。
地址 251600 山东省济南市商河县许商街道东八里村西商河现代农业科技示范园管委会