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Verfahren zur Herstellung einer Sondenlamelle (20), die einen Sondenlamellengrundkörper (18) mit einem flexiblen isolierenden Kunstharzfilm und vom Kunstharzfilm getragenen leitenden Pfaden (18a) sowie eine Mehrzahl von Kontakten (48) aufweist, die ausgebildet sind, um aus einer Oberfläche des Sondenlamellengrundkörpers (18) überzustehen, und mit den leitenden Pfaden (18a) verbunden sind, aufweisend: einen ersten Schritt eines Bildens von Fotoresist (114), der die Form von jeder Sondenspitze (48a) und jedem sich bis in die Sondenspitze (48a) fortsetzenden Armteil (48b) annimmt, auf einem Unterlagetisch (100), der mit einer Vertiefung (102) für die Sondenspitze (48a) jedes Kontakts (48) ausgebildet ist, unter Verwendung einer Fotolithografietechnik, und eines Bildens der Sondenspitze (48a) und des Armteils (48b) des Kontakts (48) durch Abscheiden eines Metallmaterials in der im Unterlagetisch (100) gebildeten Vertiefung (102) und einer im Fotoresist gebildeten Vertiefung (114); einen zweiten Schritt, nach Entfernen des Fotoresists (114), eines Bildens einer Opferschicht (124) auf dem Armteil (48b) und eines Bildens einer ersten flexiblen Kunstharzschicht (126) für den Sondenlamellengrundkörper (18) auf der Opferschicht (124); einen dritten Schritt eines Bildens einer Öffnung (130), die den Armteil (48b) durch die flexible Kunstharzschicht (126) und die Opferschicht (124) erreicht; ... |
