发明名称 流体处理组件、流体处理区段以及制造流体处理系统的方法
摘要 本发明涉及流体处理组件,其包括流体处理区段的叠堆体。每个流体处理区段具有定位在相对的端部板之间的流体处理单元的阵列以及将端部板和流体处理单元阵列靠着彼此压紧的保持器。流体处理区段可以叠堆在支持物的相对的端部构件之间,以形成流体处理组件。
申请公布号 CN103566756A 申请公布日期 2014.02.12
申请号 CN201310345034.X 申请日期 2013.08.09
申请人 帕尔公司 发明人 C·塞耶;S·梅西尔
分类号 B01D61/00(2006.01)I;B01D63/00(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I 主分类号 B01D61/00(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 钱亚卓
主权项 一种流体处理组件,其包括:流体处理区段的叠堆体,其中每个流体处理区段包括:流体处理单元的阵列,该流体处理单元的阵列具有相对的第一端部和第二端部,其中每个流体处理单元具有进给区域、渗透区域以及定位在进给区域和渗透区域之间的可渗透流体处理介质的层,可渗透介质包括与进给区域流体连通的进给侧和与渗透区域流体连通的相对的渗透侧,其中流体处理单元的阵列具有进给通道、渗透物通道和滞留物通道中的一者或多者,该进给通道与一个或多个流体处理单元的进给区域流体连通,该渗透物通道与一个或多个流体处理单元的渗透区域流体连通,该滞留物通道与一个或多个流体处理单元的进给区域流体连通,并且其中该阵列的第一端部和第二端部中的至少一个具有一个或多个流体开口,每个流体开口与进给通道、渗透物通道或滞留物通道流体连通,第一端部板和第二端部板,其中每个端部板具有相对的第一表面和第二表面,第一端部板的第一表面面向流体处理单元的阵列的第一端部,第二端部板的第一表面面向流体处理单元的阵列的第二端部,以及保持器,该保持器沿着流体处理单元的阵列在第一端部板和第二端部板之间延伸,其中该保持器被布置成将第一端部板、流体处理单元的阵列和第二端部板压在一起;并且其中一对或多对相邻的流体处理区段的相邻的端部板彼此密封,相邻的端部板中的每个具有在第一表面和第二表面之间延伸的一个或多个通孔,相邻的端部板的通孔在一个流体处理单元的阵列的端部中的流体开口与相邻的流体处理单元的阵列的端部中的流体开口之间彼此流体连通,并且其中相邻的流体处理区段的保持器彼此分隔开。
地址 美国纽约