| 发明名称 | 基板干燥方法、基板制造方法及其低温加热干燥装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种基板干燥方法、基板制造方法及其低温加热干燥装置。该基板干燥方法用在光刻胶涂布成膜后，并采用低温加热干燥，并且包括如下步骤：在光刻胶涂布成膜后，将涂布有光刻胶的基板输送到低温加热干燥装置的腔体中；在所述低温加热干燥装置的腔体中，利用低温加热干燥来挥发光刻胶。根据本发明，在实现光刻胶挥发的同时，能有效降低设备制造成本及运行成本，并能在其干燥过程中减少不均匀的产生。 | ||
| 申请公布号 | CN103578928A | 申请公布日期 | 2014.02.12 |
| 申请号 | CN201310496961.1 | 申请日期 | 2013.10.21 |
| 申请人 | 上海和辉光电有限公司 | 发明人 | 朱棋锋;张为腾;龚金金 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;G03F7/38(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 聂慧荃;黄艳 |
| 主权项 | 一种在光刻胶涂布成膜后的基板干燥方法，其中该基板干燥方法为低温加热干燥，并且包括如下步骤：在光刻胶涂布成膜后，将涂布有光刻胶的基板输送到低温加热干燥装置的腔体中；在所述低温加热干燥装置的腔体中，利用低温加热干燥来挥发光刻胶。 | ||
| 地址 | 201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室 | ||