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发明名称
微影装置及元件制造方法
摘要
本发明揭示一种判定一微影装置之一图案化元件之较高阶失真的方法,及关联装置。使用透射成像元件来量测该等较高阶失真。在一主要实施例中,使用增强型光罩,该等光罩可在周边中、在影像场之切割道中或在该影像场自身中具有额外对准光栅。
申请公布号
TWI426354
申请公布日期
2014.02.11
申请号
TW099128013
申请日期
2010.08.20
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
寇尔贝 威廉默斯 玛丽亚;凡 得 寇克霍夫 马库斯 阿德里安斯;寇卡 海口 维克多
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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