| 摘要 |
本发明之目的在于得到一种可排除扫瞄电磁铁之磁滞的影响，在行式扫瞄或混成扫瞄中可实现高精度射束照射之粒子束照射装置。;该粒子束照射装置系具备：输出扫瞄电磁铁(3)的激磁电流之扫瞄电源(4)、以及控制扫瞄电源(4)之照射控制装置(5)，照射控制装置(5)系具有扫瞄电磁铁指令值学生成器(37)，该扫瞄电磁铁指令值学生成器(37)，系评估依据被输出至扫瞄电源(4)之激磁电流的指令值(Ik)所进行之一连串照射动作之演练的结果，当评估结果未满足预定条件时，更新激磁电流的指令值(Ik)并执行演练，并将评估结果满足预定条件之激磁电流的指令值(Ik)输出至扫瞄电源(4)。 |
