发明名称 用于生长外延结构的掩模及其使用方法
摘要 本发明涉及一种用于生长外延结构的掩模及其使用方法。该掩模包括:一奈米碳管层,且该奈米碳管层具有复数个开口,从而使得基底的外延生长面可以通过该复数个开口部分暴露,通过该掩模使外延层从所述基底的外延生长面通过该开口暴露的部分生长。本发明进一步提供一种上述掩模的使用方法。
申请公布号 TWI426159 申请公布日期 2014.02.11
申请号 TW100103195 申请日期 2011.01.27
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号 发明人 魏洋;冯辰;范守善
分类号 C30B25/18;C30B23/02;C30B19/12 主分类号 C30B25/18
代理机构 代理人
主权项
地址 新北市土城区自由街2号