具有蚀刻停止层之电晶体结构及其制作方法

摘要

本发明系为一种具有蚀刻停止层之电晶体结构及其制作方法。本发明之电晶体结构，至少由基板、结晶半导体层、蚀刻停止结构、欧姆接触层、源极、汲极、闸极绝缘层以及闸极所构成。本发明之制作方法可藉由相同之光罩同时图案化欧姆接触层及结晶半导体层，或藉由相同之另一光罩同时图案化欧姆接触层及电极层。