发明名称 规则排列金属层之制造方法
摘要 一种规则排列金属层之制造方法,包含下列步骤。将基材浸置于一电解水溶液中,其中基材之表面未经过改质,此电解水溶液包含金属离子。然后,利用线性伏安扫描法施加电流于此基材,以使金属离子于基材上形成规则排列具方向性之单晶金属层。
申请公布号 TWI426161 申请公布日期 2014.02.11
申请号 TW100121656 申请日期 2011.06.21
申请人 国立中兴大学 台中市南区国光路250号 发明人 窦维平;邱咏达
分类号 C30B29/02;C25D3/02;C25D5/00 主分类号 C30B29/02
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项
地址 台中市南区国光路250号