均匀改变等离子体分布的等离子处理装置及其控制方法

摘要

本发明公开一种均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，该装置包含：处理室，用于容纳处理气体；绝缘窗，其设置于所述处理室顶部；线圈，其设置在所述处理室外部，并对应设置于绝缘窗处；该装置还包含：导板条，其靠近线圈设置；该导板条中产生与线圈的电流方向相反的感生电流；机械驱动装置，其通过连杆机械连接导板条，带动导板条远离或靠近线圈运动；导板条与线圈之间距离越近感生电流越强，导板条与线圈之间距离越远感生电流越弱，从而控制处理室内的电磁场分布。本发明采用机械驱动装置控制导板条与线圈之间的距离，以机械方式实现对等离子处理室内电磁场分布连续改变控制，设备结构简单，操作便捷，成本低。

主权项

一种均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，该装置包含：处理室，用于容纳处理气体；绝缘窗，其设置于所述处理室顶部；线圈，其设置在所述处理室外部，并对应设置于所述绝缘窗处；其特征在于，所述装置还包含：导板条，其靠近所述的线圈设置；该导板条中产生与所述线圈的电流方向相反的感生电流；机械驱动装置，其通过连杆机械连接所述的导板条，带动所述导板条远离或靠近所述线圈运动；所述导板条与线圈之间距离越近感生电流越强，导板条与线圈之间距离越远感生电流越弱，从而控制处理室内的电磁场分布。