发明名称 |
用于扫描电子显微镜观测中精确图形定位的方法 |
摘要 |
本发明用于扫描电子显微镜观测中精确图形定位的方法解决了现有技术中观测具有很大的深宽比的结构时定位困难的问题,通过在晶圆的表面先涂上光刻胶,再使用特定的光罩刻蚀出具有固定宽度和间距的光刻胶线条,这些光刻胶线条作为扫描电子显微镜观测中,进行精确定位的定位标志。对于大宽深比的结构只需要通过计算晶圆表面的光刻胶线条的数量,就可以精确的知道观测点在所观测结构中所处的位置。 |
申请公布号 |
CN102446749B |
申请公布日期 |
2014.02.05 |
申请号 |
CN201110250284.6 |
申请日期 |
2011.08.29 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
邓镭 |
分类号 |
H01L21/311(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/311(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
王敏杰 |
主权项 |
一种用于扫描电子显微镜观测中精确图形定位的方法,其特征在于,在一晶圆表面形成多条宽度相同且相互平行的光刻胶线条,任意两相邻的光刻胶线条的间距相同,将多条光刻胶线条作为参照对晶圆上的需要观测的结构进行精确定位;其中,将每条光刻胶线条的宽度控制为L,任意两条光刻胶线条之间的距离控制为S,形成多条光刻胶线条后,将距离该结构的最近的光刻胶线条设为参照线,找到需要观测的结构,测定该光刻胶线条与该结构的距离设为X,移动样品到观测点,计算所经过的光刻胶数目,将该数目设为N,从而定位观测点距离结构边缘的距离为(N‑1)*(L+S)‑X。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |