发明名称 |
光源装置、具有该光源装置的光照射装置 |
摘要 |
一种光源装置、具有该光源装置的光照射装置,在本发明的半导体装置的一实施方式中,光源装置构成为,具有发光面的多个发光元件在基板表面上隔着间隔设置成一列,从所述发光面沿着所述基板的表面向前方放射照射光,在所述基板表面的所述发光面的前方侧,以比该发光面的宽度窄的宽度形成从该发光面的下端向前方延伸的光反射抑制区域。 |
申请公布号 |
CN101886758B |
申请公布日期 |
2014.01.29 |
申请号 |
CN201010180504.8 |
申请日期 |
2010.05.14 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
井元正博;芳本光晴;数藤康裕;福留正一;山中久志 |
分类号 |
F21S2/00(2006.01)I;F21V7/00(2006.01)I;H04N1/04(2006.01)I |
主分类号 |
F21S2/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李伟;张浩 |
主权项 |
一种光源装置,在基板表面隔着间隔设置有一列具有发光面的多个发光元件,从所述发光面沿着所述基板的表面向前方放射照射光,其特征在于,在所述基板的表面的所述发光面的前方侧,以比所述发光面的宽度窄的宽度形成从所述发光面的下端向前方延伸的光反射抑制区域,在所述基板的表面的所述发光元件的发光面的前方侧,且在所述光反射抑制区域以外的部分中,形成有光反射率比所述光反射抑制区域高的光反射促进区域,所述发光元件为侧面具有所述发光面的侧发光型发光元件。 |
地址 |
日本大阪府 |