发明名称 版图二划分方法
摘要 本发明公开一种版图二划分方法,为解决现有光刻工艺中因版图密度过大而降低产品质量的缺陷而设计。本发明版图二划分方法将版图中图形间距小于最小光刻距离的图形划分成为两个子版图,通过两次光刻刻蚀得到版图图形;当分成为两个子版图后所述子版图中图形间距仍小于最小光刻距离时,将版图中图形分割成至少两个子图形,以所述子图形为单位将间距小于最小光刻距离的子图形划分为两个子版图,通过两次光刻刻蚀在基片上得到版图图形;当无法用分割的方法得到子版图的版图区域进行标注。本发明版图二划分方法应用于大规模集成电路的版图设计和产品制造领域,使用方便,准确性高。
申请公布号 CN102521425B 申请公布日期 2014.01.29
申请号 CN201110328029.9 申请日期 2011.10.25
申请人 清华大学 发明人 蔡懿慈;姚海龙;邓超
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 北京中伟智信专利商标代理事务所 11325 代理人 张岱
主权项 一种版图二划分方法,其特征在于:将版图中图形间距小于最小光刻距离的图形划分成为两个子版图,通过两次光刻刻蚀得到版图图形;当分成为两个子版图后所述子版图中图形间距仍小于最小光刻距离时,将所述子版图中图形分割成至少两个子图形,以所述子图形为单位将间距小于最小光刻距离的子图形划分为两个子版图,通过两次光刻刻蚀在基片上得到子版图图形;将无法用分割的方法得到子版图的版图区域进行标注;所述方法包括下述步骤:将版图中的多边形和矩形信息存入OpenAccess平台的数据结构中;将存贮的多边形按序划分得到至少一个矩形;计算两矩形间的间距值,当所述间距值小于最小光刻距离时判定所述两矩形所在多边形存在冲突关系,形成冲突图;在存在冲突关系的多边形上通过几何计算得到切割保护层信息,所述切割保护层是所述多边形边缘上所有与其它多边形间距离小于最小光刻距离的点的集合;将所述冲突图划分成为多个冲突子图;在多边形上确定切割位置;沿所述切割位置形成分割边;在所述冲突图中确定无法分割的区域,并标注;生成翻转图;通过对所述翻转图的计算得到划分结果;其中,生成翻转图的依据是翻转增益,所述翻转增益为节点集合内部图形颜色翻转后与翻转前的实际切割点数目的差值;由所述翻转图得到划分结果的计算方法是整数线性规划方法,目标函数(最大化):max∑ai,j其中,约束条件为:如果fgi,j≥0,约束条件为ai,j≤fgi,j(2‑xi‑xj)ai,j≤fgi,j(xi+xj)ai,j∈{0,1}如果fgi,j<0,约束条件为ai,j≤fgi,j(xi‑xj)ai,j≤fgi,j(xj‑xi)ai,j∈{0,1}其中,xi为节点簇ci的头节点所属于的颜色,xj为节点簇cj的头节点所属于的颜色,fgi,j为节点簇ci和节点簇cj之间的翻转增益,ai,j是最终实现的翻转增益。
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