| 发明名称 | 高度完整性保护涂层 | ||
| 摘要 | 具有至少一个高度完整性保护涂层的复合物品，所述高度完整性保护涂层具有至少一个平面化层和至少一个有机-无机组合物隔离涂层。一种沉积高度完整性保护涂层的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101142696B | 申请公布日期 | 2014.01.29 |
| 申请号 | CN200580046401.X | 申请日期 | 2005.11.15 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | T·W·金;严旻;C·M·A·赫勒;M·谢普肯斯;T·B·戈尔茨卡;P·A·麦康奈尔;A·G·埃尔拉特 |
| 分类号 | H01L51/50(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 刘冬;范赤 |
| 主权项 | 一种光学和光电子复合物品，所述复合物品包含：至少一个保护涂层，所述保护涂层包含至少一个有机‑无机组合物隔离涂层和至少一个平面化层，其中所述隔离涂层包含有机‑无机界面区域；并且其中有机‑无机界面区域不具有明显的界限。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||