发明名称 终点检测方法和基板处理装置
摘要 本发明提供即使在基板表面形成的形状变化,也能够可靠地检测出形状形成处理的终点的终点检测方法。将在被处理区域(A)形成的特定形状的形成结束时和强度的时间变化发生奇异性变化的奇异点的出现时刻一致的波长的光选定为监视光,使用等离子体对基板(S)实施蚀刻处理时,由照射单元(14)向基板(S)的表面的被处理区域(A)照射具有包括多个波长的规定的波段的照射光(L),监视从由光接收单元(15)接收的反射光(R)中选定的监视光的强度的时间变化,判定监视光的强度的时间变化是否到达监视光的强度变化分布图中强度发生奇异性变化的奇异点,在判定监视光的强度的时间变化到达奇异点的情况下,判断为在被处理区域(A)形成的特定形状的形成结束。
申请公布号 CN103545228A 申请公布日期 2014.01.29
申请号 CN201310285902.X 申请日期 2013.07.09
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 神户乔史;藤井祐希
分类号 H01L21/66(2006.01)I;H01J37/244(2006.01)I 主分类号 H01L21/66(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种终点检测方法,其特征在于,包括:照射步骤,在基板的表面形成特定形状的处理中,向所述基板的表面照射具有包含多个波长的规定波段的照射光;光接收步骤,接收来自所述基板的表面的反射光;监视步骤,对作为所述反射光所包含的至少一个波长的光的监视光的强度的时间变化进行监视;判定步骤,对奇异性变化的监视光的强度的时间变化是否到达与所述特定形状的形成结束对应的预先设定的规定的奇异点进行判定;和判断步骤,在判定所述监视光的强度的时间变化到达所述规定的奇异点的情况下,判断所述特定形状的形成结束。
地址 日本东京都