一种光学镀膜材料制备工艺

摘要

本发明公开了一种光学镀膜材料制备工艺，包括以下操作步骤：首先选择光学镀膜材料，然后将其放入所制备的容器中，进行机械粉碎处理，将粉碎处理好的然后进行烘干与低温脱水处理，所述烘干温度设置为200~300℃，处理时间为30~60min。通过上述方式，本发明能够提供一种光学镀膜材料的粉末状、压片状和结晶状三种不同状态、将材料中的结晶水脱去，能够极大程度的适应各种工业需求。

主权项

一种光学镀膜材料制备工艺，其特征在于：包括以下操作步骤：首先选择光学镀膜材料，然后将其放入所制备的容器中，进行机械粉碎处理，将粉碎处理好的然后进行烘干与低温脱水处理，所述烘干温度设置为200~300℃，处理时间为30~60min。