发明名称 一种大视场投影光刻物镜
摘要 一种投影光刻物镜,把掩模的图像聚焦成像在硅片上,从掩模开始沿光轴依次包括:一具有正光焦度的第一透镜组G31;一具有正光焦度的第二透镜组G32;一具有正光焦度的第三透镜组G33;以及一具有正光焦度的第四透镜组G34;上述四个透镜组,构成2x放大倍率设计,半视场不小于100mm,±5nm的I线带宽保证了足够的曝光光强。同时,本发明以相对简单的结构实现所需的微米极的分辨率,还能够校正大视场范围内畸变、场曲、像散、色差。
申请公布号 CN102540419B 申请公布日期 2014.01.22
申请号 CN201010619283.X 申请日期 2010.12.31
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 武珩;黄玲;刘国淦
分类号 G02B13/18(2006.01)I;G02B13/22(2006.01)I;G02B13/00(2006.01)I;G02B1/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G02B13/18(2006.01)I
代理机构 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人 王光辉
主权项 一种投影光刻物镜,把掩模的图像聚焦成像在硅片上,从掩模开始沿光轴依次包括:一具有正光焦度的第一透镜组G31;一具有正光焦度的第二透镜组G32;一具有正光焦度的第三透镜组G33;以及一具有正光焦度的第四透镜组G34;其中,所述各透镜组满足以下关系:1.8<|fG32/fG31|<5.40.57<|fG33/fG34|<0.970.19<|fG33/fG32|<0.5其中:fG31:所述第一透镜组G31的焦距;fG32:所述第二透镜组G32的焦距;fG33:所述第三透镜组G33的焦距;以及fG34:所述第四透镜组G34的焦距;所述第一透镜组G31由至少四片透镜构成;所述第二透镜组G32由至少六片透镜构成;所述第二透镜组G32至少包含两对相邻的正负透镜组合;所述第三透镜组G33由至少六片透镜构成;所述第三透镜组G33包含一子透镜组G33‑1n,所述子透镜组G33‑1n光焦度为正,包含所述第三透镜组G33中至少两个位置相邻且光焦度为正的透镜;所述第四透镜组G34由至少六片透镜构成;所述第四透镜组G34包含一子透镜组G34‑1n,所述子透镜组G34‑1n光焦度为正,包含所述第四透镜组G34中至少三个位置相邻且光焦度为正的透镜;所述各透镜组与子透镜组之间满足以下关系式:1.03<|fe1_max/fG31|<1.950.34<|fG33‑1n/fG33|<0.870.21<|fG34‑1n/fG34|<0.47其中:fel_max:第一透镜组G31内光焦度最大的透镜的焦距;fG33‑1n:第三透镜组G33的子透镜组G33‑1n的焦距;fG34‑1n:第四透镜组G34的子透镜组G34‑1n的焦距;所述第二透镜组G32内至少包含一正透镜和其相邻的一负透镜,其阿贝数比满足以下关系:1.23<VG32正/VG32负<1.85;所述第三透镜组G33的子透镜组G33‑1n内相邻两片正透镜的焦距,按照从掩模到硅片的顺序焦距依次为f41、f42,这两片透镜的焦距满足以下关系:0.75<f41<f42<1;其中:VG32正为所述第二透镜组G32内一正透镜的阿贝数;VG32负为所述第二透镜组G32内与所述正透镜相邻的一负透镜的阿贝数。
地址 201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号