发明名称 循环式B超耦合剂的涂抹装置
摘要 本发明涉及一种循环式B超耦合剂的涂抹装置,其特征在于:包括上下错开设置的灭菌区及涂抹区,所述灭菌区与涂抹区之间设置装置有传送带的牵引轮,所述传送带分别穿过所述灭菌区及涂抹区,传送带的外表面设置软布。本发明结构简单,采用传送带结构的循环装置,对探头依次进行灭菌和涂抹耦合剂,既能保持探头的干净卫生,又能提高耦合剂的涂抹效率。
申请公布号 CN103519844A 申请公布日期 2014.01.22
申请号 CN201310463449.7 申请日期 2013.10.08
申请人 苏州边枫电子科技有限公司 发明人 陶淑兰
分类号 A61B8/00(2006.01)I 主分类号 A61B8/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种循环式B超耦合剂的涂抹装置,其特征在于:包括上下错开设置的灭菌区及涂抹区,所述灭菌区与涂抹区之间设置装置有传送带的牵引轮,所述传送带分别穿过所述灭菌区及涂抹区,传送带的外表面设置软布。
地址 215000 江苏省苏州市吴中区木渎镇珠江南路378号天隆大楼4333室