发明名称 |
一种硅片预对准装置及方法 |
摘要 |
一种硅片预对准装置,包括用于吸附硅片并带动硅片进行旋转的旋转台,用于获取硅片边缘在水平向位置的边缘水平向传感器,用于获取硅片边缘在垂向位置的边缘垂向传感器,用于对旋转台、边缘水平向传感器和边缘垂向传感器进行同步控制的控制器,其中,当旋转台旋转时,控制器向边缘水平向传感器和边缘垂向传感器发送同步触发信号,从而两个传感器同时获取各自当前的测量值,同步获得硅片的边缘水平向位置和边缘垂向位置,通过在该点的垂向位置测量值来补偿硅片边缘当前水平向测量值。硅片旋转一周,即可以获取硅片边缘所有的水平向测量值,进而可以获取硅片的偏心值和硅片缺口的方向。本发明还提供一种硅片预对准的方法。 |
申请公布号 |
CN102402127B |
申请公布日期 |
2014.01.22 |
申请号 |
CN201010286105.X |
申请日期 |
2010.09.17 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
蔡巍;徐兵;陈跃飞;王端秀 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种硅片预对准装置,包括:旋转台,用于吸附硅片并带动硅片进行旋转;边缘水平向传感器,用于获取硅片边缘在水平向的位置;边缘垂向传感器,用于获取硅片边缘在垂向的位置;控制器,用于对旋转台、边缘水平向传感器和边缘垂向传感器进行同步控制;其中,当旋转台旋转时,控制器向边缘水平向传感器和边缘垂向传感器发送同步触发信号,从而两个传感器同时获取各自当前的测量值,同步获得硅片边缘水平向位置和边缘垂向位置,通过在该点的垂向位置测量值来补偿硅片边缘水平向测量值。 |
地址 |
201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号 |