成膜装置及使用其之方法

摘要

本发明揭示一种将一成膜装置用于一半导体制程之方法，其包括设定一闲置态：在该成膜装置之一反应室中未容纳产物目标基板；且随后藉由使自由基作用于该反应室之内表面上来执行移除该反应室之内表面中存在之污染物的净化制程。该等自由基系藉由活化含有氧气及氢气元素之净化制程气体而产生。