研磨盘

摘要

1.本外观设计产品的名称为研磨盘。2.本外观设计产品是用于半导体制造用CMP装置的研磨盘。3.本外观设计为针对同一产品的3项相似外观设计，其中指定设计1为基本设计。4.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。5.指定设计1立体图为最能表明设计要点的视图。6.设计1～设计3中的各后视图因各自的主视图相同而被省略，各左视图因与各自的右视图相同而被省略。