离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法

摘要

本发明提供离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法，能对离子束照射装置进行清洗，并且能显著提高装置的运转率。所述离子束照射装置包括：基板输送部（102），在盒（7）和处理室（5）之间对未处理的基板与离子束照射处理过的基板进行多次基板更换作业；以及离子束供给部（101），用于向处理室（5）供给离子束（3），与至少一次的基板更换作业并行地，对离子束供给部（101）的运转参数进行设定变更并对离子束供给部（101）内进行清洗。

主权项

一种离子束照射装置，其特征在于，所述离子束照射装置包括：盒，用于收纳多个基板；处理室，在该处理室内对所述基板进行离子束照射处理；基板输送部，在所述盒和所述处理室之间进行多次基板更换，所述基板更换是对收纳在所述盒内的未处理的基板与在所述处理室内经过离子束照射处理的处理过的基板进行更换；以及离子束供给部，产生离子束，并向所述处理室内供给所述离子束，与通过所述基板输送部进行的多次基板更换作业中的至少一次基板更换作业并行地，对所述离子束供给部的运转参数进行设定变更并对所述离子束供给部内进行清洗。