蚀刻液及导体图案之形成方法

摘要

本发明提供即使连续或反覆使用，也可以一边维持图案的顶部形状一边进行蚀刻的铜的蚀刻液，和使用其的导体图案之形成方法。本发明的蚀刻液的特征为，是含有铜离子源、酸及水的铜蚀刻液，其中，含有唑和芳香族化合物，所述唑仅具有氮原子作为存在于环内的杂原子，所述芳香族化合物选自酚类和芳香族胺类中之至少一种。另外，本发明的导体图案之形成方法的特征为，使用上述本发明的蚀刻液，将电气绝缘材料(1)上铜层的未被阻蚀剂(3)覆盖的部分进行蚀刻，形成导体图案(2)。