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发明名称
雷射照射设备及制造半导体装置之方法
摘要
本发明的目的在于提供一种雷射照射设备,其能够用具有均匀能量密度的雷射光束照射照射物体,而不使光学系统变复杂。;本发明的雷射照射设备,包括:雷射振荡器;光学系统,用于在照射物体的表面之上在单轴方向上重复地扫描自雷射振荡器发出的雷射光束的光点;以及定位控制装置,用于在与单轴方向垂直的方向上相对于雷射光束移动照射物体的位置。
申请公布号
TWI423299
申请公布日期
2014.01.11
申请号
TW094111556
申请日期
2005.04.12
申请人
半导体能源研究所股份有限公司 日本
发明人
田中幸一郎;山本良明
分类号
H01L21/02
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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