发明名称 涂敷、显影装置,及涂敷、显影方法
摘要 本发明之课题在于,提供一种提高基板生产性的涂敷、显影装置。;其解决手段在于,本发明之涂敷、显影装置具备:刷子洗净体,系间离于藉由洗净构件来洗净基板的位置而设置,且该刷子洗净体的下表面是形成为:与刷子部接触而洗净该刷子部的洗净面;及移动手段,系使洗净构件在洗净基板的区域与藉由刷子洗净体来洗净刷子部的区域之间移动;及旋转手段,系用以将洗净构件之刷子部压抵于刷子洗净体的下表面,并使刷子洗净体与洗净构件相对地旋转;以及洗净液供给手段,系当使刷子洗净体与刷子构件相对地旋转时,将洗净液供给至刷子洗净体的下表面与刷子部之间。
申请公布号 TWI423365 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW098108069 申请日期 2009.03.12
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 锦户修一;吉高直人;北野高广;德永容一
分类号 H01L21/67;H01L21/30 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本