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发明名称
间隔片阵列及其制作方法
摘要
本发明提供一种间隔片阵列,该间隔片阵列具有复数阵列排布之通孔与围绕该通孔之遮光区,该间隔片阵列之材料为黑化之聚二甲基矽氧烷。本发明还提供一种上述间隔片之制作方法。本发明采用黑化之聚二甲基矽氧烷材料制作间隔片,原材料成本低。且利用灰阶光罩可避免繁琐之对准流程,从而适合大批量生产。
申请公布号
TWI423432
申请公布日期
2014.01.11
申请号
TW097135102
申请日期
2008.09.12
申请人
鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号
发明人
庄信弘
分类号
H01L27/146;G02F1/1339
主分类号
H01L27/146
代理机构
代理人
主权项
地址
新北市土城区自由街2号
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