发明名称 间隔片阵列及其制作方法
摘要 本发明提供一种间隔片阵列,该间隔片阵列具有复数阵列排布之通孔与围绕该通孔之遮光区,该间隔片阵列之材料为黑化之聚二甲基矽氧烷。本发明还提供一种上述间隔片之制作方法。本发明采用黑化之聚二甲基矽氧烷材料制作间隔片,原材料成本低。且利用灰阶光罩可避免繁琐之对准流程,从而适合大批量生产。
申请公布号 TWI423432 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW097135102 申请日期 2008.09.12
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号 发明人 庄信弘
分类号 H01L27/146;G02F1/1339 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人
主权项
地址 新北市土城区自由街2号