| 发明名称 | 含芳基联亚氨基染料的抗反射底涂料 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种新型抗反射的涂料溶液及其在照相平板印刷中的使用方法。该抗反射的涂料溶液包括聚合物、新型的芳基联亚氨基染料和溶剂,其中,该新型的芳基联亚氨基染料可吸收约180nm至约450nm的辐射。 | ||
| 申请公布号 | CN1232550A | 申请公布日期 | 1999.10.20 |
| 申请号 | CN97198408.5 | 申请日期 | 1997.09.26 |
| 申请人 | 克拉里安特国际有限公司 | 发明人 | S·丁;A·J·科索;D·N·克汉纳;T·T·汉尼根;D·E·艾比利;P－H·卢 |
| 分类号 | G03F7/09;C09B29/32 | 主分类号 | G03F7/09 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
| 主权项 | 1．一种用于照相平板印刷的抗反射涂料组合物，该组合物包括：a)聚合物；b)包括以下结构的染料，<img file="A9719840800021.GIF" wi="212" he="339" />式中A<sub>1</sub>和A<sub>2</sub>独立地为吸电子基团，R<sub>1</sub>是H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基、硝基、卤化物、氰基、芳基、烷芳基、链烯基、二氰乙烯基、SO<sub>2</sub>CF<sub>3</sub>、COOZ、SO<sub>3</sub>Z、COZ、OZ、NZ<sub>2</sub>、SZ、SO<sub>2</sub>Z、NHCOZ或SO<sub>2</sub>NZ<sub>2</sub>，式中Z是H或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基，Y是共轭残基N=N、CW=CW、CW=N，或N=CW，其中，W是H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基，且m=1-5；和c)溶剂。 | ||
| 地址 | 瑞士穆腾茨 | ||