发明名称 | 光罩图案分析装置及光罩图案分析方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种光罩图案分析装置及光罩图案分析方法,该方法包含以下步骤:群组一电路布局中多个多角形而形成多个多角形群;根据该电路布局的一虚像,找出任一多角形群的潜在缺陷区域;决定该任一多角形群潜在缺陷区域的代表点;决定该任一多角形群中多个多角形的代表点;以及比较该任一多角形群中多个多角形的代表点与该任一多角形群潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系以及另一多角形群中多个多角形的代表点与该另一多角形群潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系。以上步骤皆由一电脑系统中的一处理器执行。 | ||
申请公布号 | CN103488044A | 申请公布日期 | 2014.01.01 |
申请号 | CN201310234762.3 | 申请日期 | 2013.06.13 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 傅国贵 |
分类号 | G03F1/36(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 赵根喜;李昕巍 |
主权项 | 一种光罩图案分析装置,包含:一处理器,用以:群组一电路布局中多个多角形而形成多个多角形群;根据该电路布局的一虚像,找出各该多角形群的潜在缺陷区域;决定各该多角形群的该潜在缺陷区域的代表点;决定各该多角形群中该多个多角形的代表点;以及比较所述多个多角形群的一者中该多个多角形的代表点与该者的该潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系与所述多个多角形群的另一者中该多个多角形的代表点与该另一者的该潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系。 | ||
地址 | 中国台湾桃园县 |