发明名称 像素结构、像素结构的制作方法以及有源元件阵列基板
摘要 一种像素结构及其制作方法以及有源元件阵列基板。像素结构由扫描线与数据线驱动。像素结构包括第一图案化金属层,设置于基板上且具共用线与栅极;第一绝缘层,覆盖第一图案化金属层;半导体图案,位于栅极上方第一绝缘层上;第二图案化金属层,设置于第一绝缘层上且具源极与漏极,源极与漏极电连接于半导体图案;第二绝缘层,覆盖第二图案化金属层且具接触窗开口暴露漏极;电极层,设置于第二绝缘层上且具像素电极与共用电极,像素电极经接触窗开口而连接到漏极。共用线、第一绝缘层与像素电极构成第一存储电容。共用线、漏极与共用电极构成三明治结构,共用线、第一绝缘层与漏极构成第二存储电容,漏极、第二绝缘层与共用电极构成第三存储电容。
申请公布号 CN103488012A 申请公布日期 2014.01.01
申请号 CN201210190372.6 申请日期 2012.06.08
申请人 瀚宇彩晶股份有限公司 发明人 郭丰玮;任珂锐;游家华;王义方
分类号 G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 G02F1/1362(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陈小雯
主权项 一种像素结构,设置于基板上,所述像素结构由扫描线与数据线所驱动,所述像素结构的特征在于包括:第一图案化金属层,设置于所述基板上,所述第一图案化金属层具有共用线与栅极;第一绝缘层,覆盖所述第一图案化金属层;半导体图案,位于所述栅极上方的所述第一绝缘层上;第二图案化金属层,设置于所述第一绝缘层上,所述第二图案化金属层具有源极与漏极,所述源极与所述漏极电连接于所述半导体图案;第二绝缘层,覆盖所述第二图案化金属层,所述第二绝缘层具有接触窗开口暴露出所述漏极;以及电极层,设置于所述第二绝缘层上,所述电极层具有像素电极与共用电极,所述像素电极经由所述接触窗开口而连接到所述漏极,其中,所述共用线、所述第一绝缘层与所述像素电极构成第一存储电容,所述共用线、所述漏极与所述共用电极构成三明治结构,所述共用线、所述第一绝缘层与所述漏极构成第二存储电容,且所述漏极、所述第二绝缘层与所述共用电极构成第三存储电容,部分的所述漏极延伸到所述共用线上方、且重叠于所述共用线上方的所述第一绝缘层上。
地址 中国台湾新北市