发明名称 |
SOLUTION UTILISEE DANS LA FABRICATION D'UN MATERIAU SEMI-CONDUCTEUR POREUX ET PROCEDE DE FABRICATION DUDIT MATERIAU |
摘要 |
La présente invention concerne une solution comprenant de l'acide fluorhydrique, un alcool, et un sel métallique dont le métal a un potentiel d'oxydoréduction positif par rapport à une électrode à hydrogène à 25 degres C.
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申请公布号 |
FR2914925(A1) |
申请公布日期 |
2008.10.17 |
申请号 |
FR20070054443 |
申请日期 |
2007.04.13 |
申请人 |
ALTIS SEMICONDUCTOR |
发明人 |
DELAHAYE BRUNO;BALTZINGER JEAN LUC;SANOGO MALAMINE;RICHOU GAELLE |
分类号 |
C09K13/08;B05D3/10;H01L21/306;H01L31/18 |
主分类号 |
C09K13/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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