发明名称 SOLUTION UTILISEE DANS LA FABRICATION D'UN MATERIAU SEMI-CONDUCTEUR POREUX ET PROCEDE DE FABRICATION DUDIT MATERIAU
摘要 La présente invention concerne une solution comprenant de l'acide fluorhydrique, un alcool, et un sel métallique dont le métal a un potentiel d'oxydoréduction positif par rapport à une électrode à hydrogène à 25 degres C.
申请公布号 FR2914925(A1) 申请公布日期 2008.10.17
申请号 FR20070054443 申请日期 2007.04.13
申请人 ALTIS SEMICONDUCTOR 发明人 DELAHAYE BRUNO;BALTZINGER JEAN LUC;SANOGO MALAMINE;RICHOU GAELLE
分类号 C09K13/08;B05D3/10;H01L21/306;H01L31/18 主分类号 C09K13/08
代理机构 代理人
主权项
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