发明名称 SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD
摘要 <p>기판 처리 장치 및 기판 처리 방법이 개시된다. 본 발명의 실시예에 따르면 기판 처리 장치에 있어서, 로딩/언로딩유닛과; 기판 처리 공정이 진행되는 공정유닛과; 상기 로딩/언로딩유닛과 상기 공정유닛 사이에 배치되는 로드락유닛과; 상기 공정유닛과 상기 로드락유닛 간에 기판을 이송하는 반송부재를 포함하고, 상기 로딩/언로딩유닛은, 기판 반송대와; 상기 기판 반송대의 측부에서 상기 기판 반송대와 나란하게 배치되고, 공정 진행시 기판들이 놓이는 트레이가 위치하는 트레이 지지대와; 상기 기판 반송대에 놓인 상기 기판들을 상기 트레이 지지대에 놓인 상기 트레이 상으로 반송하는 반송 로봇을 포함하되, 상기 반송 로봇은 상기 트레이를 세정하는 세정 부재를 가지고, 상기 로딩/언로딩유닛, 상기 로드락유닛, 그리고 상기 공정유닛은 순차적으로 배치된다.</p>
申请公布号 KR101344924(B1) 申请公布日期 2013.12.27
申请号 KR20110132098 申请日期 2011.12.09
申请人 发明人
分类号 H01L21/673;H01L21/677;H01L31/18 主分类号 H01L21/673
代理机构 代理人
主权项
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