发明名称 STAGE SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
摘要 <p>이 스테이지 장치 (PST) 는, 기판 (P) 을 유지하는 기판 유지면 (33A) 을 갖는 홀더 (PH) 와, 홀더 (PH) 를 지지하여 이동하는 스테이지 (52) 를 구비하고, 또한, 홀더 (PH) 근방에 배치되며, 적어도 일부가 친액성을 갖는 친액부 (3, 5) 를 갖고, 친액부 (3, 5) 를 사용하여 액체 (1) 를 회수하는 회수 장치 (60) 를 구비한다. 그 결과, 투영 광학계와 기판 사이를 액체로 채워서 노광 처리하는 경우에 있어서도, 기판과 홀더 사이에 액체가 침입하는 경우가 방지된다.</p>
申请公布号 KR101345443(B1) 申请公布日期 2013.12.27
申请号 KR20117026180 申请日期 2004.12.15
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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