| 发明名称 |
SPUTTERING TARGET, METHOD FOR FORMING AMORPHOUS OXIDE THIN FILM USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR |
| 摘要 |
<p>본 발명은 표면에 화이트스폿이 없는 외관이 양호한 스퍼터링 타겟을 제공한다. 본 발명은 2종 이상의 상동 결정 구조를 포함하는 산화물 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타겟을 제공한다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101344594(B1) |
申请公布日期 |
2013.12.26 |
| 申请号 |
KR20107028669 |
申请日期 |
2009.05.22 |
| 申请人 |
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发明人 |
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| 分类号 |
B22F3/12;C23C14/08;C23C14/34;H01L29/786 |
主分类号 |
B22F3/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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