发明名称 硅/取向碳纳米管纱线及其制备方法和应用
摘要 本发明属于电化学技术领域,具体涉及一种硅/取向碳纳米管纱线及其制备方法和应用。本发明的硅/取向碳纳米管纱线,由硅/取向碳纳米管薄膜加捻形成。硅/取向碳纳米管薄膜由硅-碳纳米管皮芯结构以及纯碳纳米管以相同取向一定分布排列而成,其轴向与薄膜长度方向相一致。在硅/取向碳纳米管纱线中,取向碳纳米管提供了电子的快速传输通道,而且由取向碳纳米管所构建的骨架具有高的强度和良好柔性,因此硅/取向碳纳米管纱线可用作锂离子电池负极材料,能保证电极材料在循环过程中的稳定性;并且硅包裹在纱线中,可防止硅材料在循环过程中的脱落,同时硅材料周围均匀地被取向碳纳米管填充,可保证良好的电接触。
申请公布号 CN103474630A 申请公布日期 2013.12.25
申请号 CN201310434938.X 申请日期 2013.09.23
申请人 复旦大学 发明人 彭慧胜;翁巍;林惠娟;孙倩
分类号 H01M4/36(2006.01)I;H01M4/583(2010.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 H01M4/36(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 陆飞;盛志范
主权项 一种硅/取向碳纳米管纱线,其特征在于:由硅/取向碳纳米管薄膜加捻形成,捻回角为5º~35º,直径为100 nm~200 μm;其中,所述的硅/取向碳纳米管薄膜是由硅‑碳纳米管皮芯结构组成的单级取向薄膜,或者是由碳纳米管和硅‑碳纳米管皮芯结构组成的两级取向薄膜,或者是由碳纳米管、硅‑碳纳米管皮芯结构和碳纳米管组成的三级取向薄膜;所述的硅‑碳纳米管皮芯结构是指表面均匀包覆一层纳米硅的单根碳纳米管;纳米硅的厚度为5 nm~100 nm;所述的由硅‑碳纳米管皮芯结构组成的单级取向薄膜,是指薄膜仅由硅‑碳纳米管皮芯结构构成,且都具有相同取向,并且其轴向与薄膜长度方向一致;薄膜厚度为20 nm~20 μm;所述的由碳纳米管和硅‑碳纳米管皮芯结构组成的两级取向薄膜,是指薄膜分为上、下两部分,一部分由纯碳纳米管构成,另一部分由硅‑碳纳米管皮芯结构构成,并且所有的碳纳米管和硅‑碳纳米管皮芯结构都具有相同取向,而且其轴向与薄膜长度方向一致;薄膜各部分的厚度均为20 nm~20 μm;所述的由碳纳米管、硅‑碳纳米管皮芯结构和碳纳米管组成的三级取向薄膜,是指薄膜分为上、中、下三部分,上、下部分由纯碳纳米管构成,中间部分由硅‑碳纳米管皮芯结构构成,并且所有的碳纳米管和硅‑碳纳米管皮芯结构都具有相同取向,而且其轴向与薄膜长度方向一致;薄膜各部分的厚度均为20 nm~20 μm。
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