发明名称 一种陶瓷元件局部表面化学镀NiP-Cu电极制造工艺
摘要 本发明涉及一种陶瓷元件局部表面化学镀NiP-Cu电极的制造工艺,特别涉及一种用贱金属铜或镍用化学沉积法制造电极的工艺。该工艺包括陶瓷元件制备、清洗干燥、粗化、印刷、活化、浸泡、预镀、镀铜、脱水干燥、热处理、焊接、测试等步骤。本发明的优点是该工艺陶瓷元件的表面贱金属层的附着力高、性能好,易焊接;局部进行化学镀,工艺简单,也免去了以往全电极化学镀工艺的粘、磨、散工艺;节省了原材料,降低了成本,成本降低为原来的五分之一;完善了镀液的配方,可实现陶瓷元件局部表面化学镀的批量生产。本发明适用于所有陶瓷元件的电极制造。
申请公布号 CN102409322B 申请公布日期 2013.12.25
申请号 CN201110364229.X 申请日期 2011.11.16
申请人 鞍山市中普仪表电子设备有限公司 发明人 杨新宇;徐莹;朴亚东;张革;王英男
分类号 C23C18/36(2006.01)I;C23C18/40(2006.01)I;C23C18/18(2006.01)I 主分类号 C23C18/36(2006.01)I
代理机构 鞍山嘉讯科技专利事务所 21224 代理人 张群
主权项 一种陶瓷元件局部表面化学镀NiP‑Cu电极制造工艺,其特征在于,包括如下步骤: 1)对陶瓷元件进行清洗、干燥; 2)粗化处理、清洗; 3)印刷;在陶瓷元件需金属化的部位被覆催化浆料,烘干; 4)活化处理;将步骤3)中烘干后的陶瓷元件进行高温活化处理;活化处理后的陶瓷元件,放入无水乙醇、正丁醇、异丙醇中浸泡2‑4小时; 5)预镀;将经高温活化处理后的陶瓷元件置于预镀液中,在40‑50℃条件下滚镀,在陶瓷元件经活化处理的部位形成Ni‑P合金镀层;每升预镀液中,加入以下成分:硫酸镍1‑10克,次亚磷酸钠30‑60克,稳定剂0.2‑3克;预镀液中,稳定剂采用硫脲、铅离子或碘酸钾中的一种以上混合; 6)镀铜;将预镀后的陶瓷元件移入镀铜液中,在40‑50℃条件下滚镀,调PH=11.9~12.6,通入压缩空气进行空气搅拌,滚镀20‑40分钟;每升镀铜液中,加入以下成分:硫酸铜6~16克、酒石酸钾钠8~28克、乙二胺四乙酸二钠15~28克、氢氧化钠10~30克、甲醛8~18克、稳定剂0.02~2克、表面活性剂0.01~1克;该步骤中使用的稳定剂为二价硒化合物、含氮化合物、含硫化合物中一种以上混合;所述的含氮化合物选自邻菲咯啉、2‑2联吡啶或亚铁氰化钾中的一种,所述的含硫化合物为硫脲或硫代硫酸钠;所述的表面活性剂为非离子表面活性剂,选自月桂醇、聚丙二醇或聚乙二醇中的一种以上混合; 7)脱水干燥; 8)热处理;烘箱200‑500℃,热处理10‑60分钟; 9)将镀铜后的陶瓷元件进行浸焊,并进行电性能测试; 所述的步骤3)中催化浆料的制法为: ①以盐酸或硫酸为溶剂,盐酸或硫酸:水=1:2;将金属活化剂溶于盐酸或硫酸中使其呈现离子分布状态,所述的金属活化剂为二氯化钯、三氯化钌、三氯化铑中的一种以上混合,金属活化剂加入量为原料重量的2‑8%,盐酸或硫酸加入量为原料重量的2‑10%; ②再将润湿剂乙二醇丁醚、乙二醇甲醚、苯乙酮中的一种以上混合加入上述金属活化剂溶液中,润湿剂加入量为原料的重量百分比60‑90%; ③再加入增稠剂及调色剂,增稠剂为醋酸纤维素或乙基纤维素,调色剂为超细碳粉或200‑300目碳黑,增稠剂加入量为原料的重量百分比3‑20%,调色剂加入量为原料的重量百分比1‑15%;混合均匀,在50‑60℃条件下缓慢溶解,即得到丝网印刷所需的催化浆料。
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