发明名称 增强式高电子移动率电晶体及其制造方法
摘要 本发明揭示一种增强式高电子移动率电晶体及其制造方法,其包括:一缓冲层,磊晶于一基板上;一源级及汲级,形成于该缓冲层上;复数个P-N接面,其系由多层堆叠之P-N接面形成于该缓冲层上、及该源级与汲级之间;及一闸极,形成于该等P-N接面之堆叠上;其中该P-N接面系由一P型及一N型半导体层所构成。
申请公布号 TWI420664 申请公布日期 2013.12.21
申请号 TW099124686 申请日期 2010.07.27
申请人 国立交通大学 新竹市大学路1001号 发明人 张翼;张嘉华;林岳钦
分类号 H01L29/778;H01L21/335;H01L21/28 主分类号 H01L29/778
代理机构 代理人 林坤成 台北市信义区松德路171号2楼;谢金原 台北市信义区松德路171号2楼
主权项
地址 新竹市大学路1001号