发明名称 |
增强式高电子移动率电晶体及其制造方法 |
摘要 |
本发明揭示一种增强式高电子移动率电晶体及其制造方法,其包括:一缓冲层,磊晶于一基板上;一源级及汲级,形成于该缓冲层上;复数个P-N接面,其系由多层堆叠之P-N接面形成于该缓冲层上、及该源级与汲级之间;及一闸极,形成于该等P-N接面之堆叠上;其中该P-N接面系由一P型及一N型半导体层所构成。 |
申请公布号 |
TWI420664 |
申请公布日期 |
2013.12.21 |
申请号 |
TW099124686 |
申请日期 |
2010.07.27 |
申请人 |
国立交通大学 新竹市大学路1001号 |
发明人 |
张翼;张嘉华;林岳钦 |
分类号 |
H01L29/778;H01L21/335;H01L21/28 |
主分类号 |
H01L29/778 |
代理机构 |
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代理人 |
林坤成 台北市信义区松德路171号2楼;谢金原 台北市信义区松德路171号2楼 |
主权项 |
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地址 |
新竹市大学路1001号 |